“超分辨光刻装备研制”项目近日在超分辨成像器件设计与加工技术等关键技术上取得系列突破,研制出了全球首套分辨率突破了衍射极限的光刻装备,并拥有完全自主知识产权。该项目发表论文68篇,申请国家发明专利92项,其中授权47项,申请国际专利8项,授权4项。项目培养了一支超分辨光刻技术和装备研发团队。
结合实际应用需求,该项目组通过技术的延伸,实现了系列化的超分辨光刻装备研制,已经解决了多种微纳功能材料和器件的加工难题,并实现了相关器件的制造。

这不仅打破了国外在高端光刻装备领域的垄断,也为纳米光学加工提供了全新的解决途径。




